特許
J-GLOBAL ID:200903031699953880

浄化槽

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 北村 修
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-188930
公開番号(公開出願番号):特開平9-029276
出願日: 1995年07月25日
公開日(公表日): 1997年02月04日
要約:
【要約】【目的】 処理水の水質を高く維持しやすい浄化槽を提供すること。【構成】 上流側からの被処理水の流入路1を備えてある上流側処理室E1を設けるとともに、前記上流側処理室E1の下流側に膜濾過処理室E2を設け、前記上流側処理室E1に被処理水を前記膜濾過処理室E2へ移送する移送ポンプ2を設け、前記膜濾過膜処理室E2から被処理水を、前記上流側処理室E1に返送する返送路4を設けてある浄化槽において、前記流入路1を流入管から構成し、前記流入管の吐出口1aを、前記返送路4の開口部の下方でかつ前記移送ポンプ2の下流側に配置した。
請求項(抜粋):
上流側からの被処理水の流入路(1)を備えてある上流側処理室(E1)を設けるとともに、前記上流側処理室(E1)の下流側に膜濾過処理室(E2)を設け、前記上流側処理室(E1)に被処理水を前記膜濾過処理室(E2)へ移送する移送ポンプ(2)を設け、前記膜濾過処理室(E2)から被処理水を、前記上流側処理室(E1)に返送する返送路(4)を設けてある浄化槽であって、前記流入路(1)を流入管から構成し、前記流入管の吐出口(1a)を、前記返送路(4)の開口部の下方でかつ前記移送ポンプ(2)の下流側に配置してある浄化槽。
IPC (2件):
C02F 3/00 ZAB ,  C02F 1/44 ZAB
FI (2件):
C02F 3/00 ZAB B ,  C02F 1/44 ZAB K

前のページに戻る