特許
J-GLOBAL ID：200903031713719437
エッチング装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大垣 孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-096579
公開番号（公開出願番号）：特開平6-077167
出願日： 1991年04月26日
公開日（公表日）： 1994年03月18日
要約：
【要約】[目的]電子サイクロトロン共鳴型の反応性イオンビームエッチング装置においてイオン粒子がイオン引出し電極をエッチングするのを防止する。[構成]プラズマ室12、イオン引出し電極181の間に耐エッチング性保護部材183を設ける。プラズマ室内壁18aをアース60に接続し交流電圧源52の一端をアース60、内壁18aの間に及び他端をマッチング回路54を介し電極181に接続する。また直流電圧源56の一端をアース60に及び他端を回路54、電極181の間に接続する。交流電圧源52は電極181を接地電位に対し時間的に交互に負及び正とする電圧を供給するので、保護部材183に電子を入射させこの部材が正に帯電するのを防止できる。従って保護部材183を設けてもエッチングガスの正イオン粒子をプラズマ室12からエッチング室16へ支障なく入射させることができる。
請求項（抜粋）：
マイクロ波発生器と、該マイクロ波発生器及びエッチングガス源と接続するプラズマ室と、該プラズマ室に対して磁場を形成する磁場発生器と、前記プラズマ室と連通するエッチング室と、前記プラズマ室内に生じたエッチングガスのイオン粒子を前記プラズマ室からエッチング室に向けて加速する電界を形成するイオン引出し電極と、前記エッチング室に設けた被エッチング体を位置決めするためのホルダー部とを備えて成る電子サイクロトロン共鳴型のエッチング装置において、前記イオン粒子に対して耐エッチング性を有する保護部材をイオン引出し電極とプラズマ室との間に設け、前記保護部材及びイオン引出し電極にそれぞれ前記イオン粒子を通過させるための複数の貫通穴を設け、前記保護部材及びイオン引出し電極の貫通穴を、平面的にみたとき重なり合うように配置し、前記プラズマ室の内壁を接地し、前記プラズマ室内壁及びイオン引出し電極の間に直流バイアス電圧源と交流バイアス電圧源とを接続し、前記直流バイアス電圧源は、エッチング時に前記イオン引出し電極が接地電位に対し負となる直流バイアス電圧を供給し、前記交流バイアス電圧源は、エッチング時に前記イオン引出し電極が接地電位に対し時間的に交互に負及び正となる交流バイアス電圧を供給することを特徴とするエッチング装置。
IPC (6件)：
H01L 21/302
, C23F 4/00
, C30B 33/12
, H01L 21/205
, H01L 21/31
, H05H 1/46
