特許
J-GLOBAL ID：200903031721857288
処理顔料、その用途及び顔料処理用化合物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
安富 康男
, 野田 慎二
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2003008019
公開番号（公開出願番号）：WO2004-000950
出願日： 2003年06月25日
公開日（公表日）： 2003年12月31日
要約：
表面にカルボジイミド基と反応可能な官能基を持たない顔料でも、分散媒体中で良好な分散安定性と流動性を有する処理顔料とその分散組成物、更にカラーフィルターやブラックマトリックス等のパターン形成した時に、非常に優れた現像特性を有するレジスト組成物を提供する。更に、このような顔料の処理に適した顔料処理用化合物を提供する。本発明は、分子内にポリエステル側鎖、ポリエーテル側鎖及びポリアクリル側鎖からなる群より選択される少なくとも1種の側鎖と、塩基性窒素含有基とをそれぞれ少なくとも1つ有するカルボジイミド系化合物で処理してなることを特徴とする処理顔料である。
請求項（抜粋）：
分子内にポリエステル側鎖、ポリエーテル側鎖及びポリアクリル側鎖からなる群より選択される少なくとも1種の側鎖と、塩基性窒素含有基とをそれぞれ少なくとも1つ有するカルボジイミド系化合物で処理してなる
ことを特徴とする処理顔料。
IPC (6件)：
C09C3/10
, C09C1/56
, C09D17/00
, C09D133/00
, C09D167/00
, C09D171/00
C09C3/10
, C09C1/56
, C09D17/00
, C09D133/00
, C09D167/00
, C09D171/00
