特許
J-GLOBAL ID：200903031733310039
インライン式真空成膜装置およびその冷却制御方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
志賀 富士弥 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-373828
公開番号（公開出願番号）：特開2003-171763
出願日： 2001年12月07日
公開日（公表日）： 2003年06月20日
要約：
【要約】【課題】 真空槽とは機械的に分離され、該真空槽内に設けられたターゲット1,1...の配列方向と平行に移動する通過式基板ホルダー12を備え、該ホルダーに保持した基板6に薄膜を形成するインライン式真空成膜装置において、前記ホルダー12の効率良い冷却を実現し、通過式基板ホルダーを用いるタイプのスパッタ設備においても有機材料基板上へのスパッタリング成膜を可能にする。【解決手段】 通過式基板ホルダー走行ガイド41に沿って移動する前記ホルダー12上に、電子冷凍素子21を介して、保冷用冷却材容器31を搭載した保冷容器収納型ヒートシンク33を連結する。前記電子冷凍素子21への通電は、前記走行ガイド41に平行して設けられた電子冷凍素子用給電レール43P,43N、該レールに摺動可能に接続された給電ブラシ44P,44N、およびリード線22P,22Nを介して行う。
請求項（抜粋）：
真空槽とは機械的に分離され、該真空槽内に設けられたターゲットの配列方向と平行に移動する基板ホルダーを備え、該基板ホルダーに保持した基板に薄膜を形成するインライン式真空成膜装置において、前記基板ホルダーに連結された冷却手段を備えたことを特徴とするインライン式真空成膜装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 14/50 E
, C23C 16/458
4K029DA00
, 4K029EA08
, 4K029EA09
, 4K029JA01
, 4K030GA02
, 4K030JA10
, 4K030JA16
, 4K030KA26
, 4K030KA41
