特許

J-GLOBAL ID：200903031736467087

Bi含有複合金属酸化物薄膜の製造方法

発明者： 内田 寛人 ,  齋 篤 ,  佐藤 正光 ,  小木 勝実
出願人/特許権者： 三菱マテリアル株式会社
代理人 (1件)： 重野 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-200835
公開番号（公開出願番号）：特開平9-049082
出願日： 1995年08月07日
公開日（公表日）： 1997年02月18日
要約：

【要約】【課題】 気相成長法により、Bi含有複合金属酸化物薄膜を低温で成膜する。膜組成のコントロールを容易とする。【解決手段】 原料有機Bi化合物として、下記一般式(I)で表されるジビスマスチン化合物を用いる。【化4】【効果】 Bi-Bi結合の反応活性が高いことから、比較的低温で解裂するため、従来の化合物に比べて低温成膜が可能である。化合物中のBi含有量が従来の化合物に比べて2倍モルと多いため、Biが効率的に膜中に取り込まれ易く、膜組成コントロールが容易になる。

請求項（抜粋）：

気相成長法によりBi含有複合金属酸化物薄膜を製造する方法において、揮発性Bi化合物として、下記一般式(I)で表されるジビスマスチン化合物を用いることを特徴とするBi含有複合金属酸化物薄膜の製造方法。【化1】

IPC (3件)：

C23C 16/40 ,  B01J 19/00 ,  C30B 25/08

FI (3件)：

C23C 16/40 ,  B01J 19/00 K ,  C30B 25/08