特許
J-GLOBAL ID:200903031751076361

光導波路グレーティングの形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 長谷川 芳樹 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-096040
公開番号(公開出願番号):特開平11-295537
出願日: 1998年04月08日
公開日(公表日): 1999年10月29日
要約:
【要約】【課題】 光導波路グレーティングを形成するに際し、脱水素処理工程によって生じた損失波長の変化を調整することのできる方法を提供するものである。【解決手段】 光導波路10に水素を添加し、次いで、光導波路10の長手方向に紫外光30を周期的に照射して所定波長を中心に減衰を生じさせる長周期グレーティングを形成し、さらに、光導波路10を脱水素処理した後、光導波路10の長手方向に均一に所定量の紫外光30を照射する紫外光照射工程、及び光導波路10に所定量の熱を加えるアニール工程の少なくともいずれかの工程を行い、所定波長を調整する方法である。
請求項(抜粋):
感光性コアを有する光導波路に紫外光を照射してグレーティングを形成する方法において、前記光導波路に水素を添加し、次いで、前記光導波路の長手方向に紫外光を周期的に照射して所定波長を中心に減衰を生じさせる長周期グレーティングを形成し、さらに、前記光導波路を脱水素処理した後、前記光導波路の長手方向に均一に所定量の紫外光を照射する紫外光照射工程、及び前記光導波路に所定量の熱を加えるアニール工程の少なくともいずれかの工程を行い、前記所定波長を調整することを特徴とする光導波路グレーティングの形成方法。
IPC (7件):
G02B 6/10 ,  G02B 5/18 ,  G02B 6/00 306 ,  H04B 10/14 ,  H04B 10/135 ,  H04B 10/13 ,  H04B 10/12
FI (4件):
G02B 6/10 C ,  G02B 5/18 ,  G02B 6/00 306 ,  H04B 9/00 Q
引用特許:
審査官引用 (1件)

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