特許
J-GLOBAL ID：200903031753626130
白金のエッチング方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
大垣 孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-255649
公開番号（公開出願番号）：特開平7-122534
出願日： 1993年10月13日
公開日（公表日）： 1995年05月12日
要約：
【要約】【目的】 この発明の第一の目的は、白金のパターニングが終了した試料上に次に形成する薄膜と、該試料との付着性を損ねることのない白金のエッチング方法を提供する。【構成】 白金膜14上にエッチングマスクを形成し、該白金膜14をドライエッチング法により選択的にエッチングするに当たり、エッチングマスク16aとしてシリコン窒化膜を用い、エッチングガスとしてアルゴン(Ar)ガスをもちいる。
請求項（抜粋）：
白金上にエッチングマスクを形成し、該白金をプラズマエッチング法により選択的にエッチングするに当たり、エッチングガスとしてアルゴンガスを用い、エッチングマスクとしてシリコン窒化膜(SiNX 膜)およびシリコン酸化膜(SiO2 膜)の中から選ばれた少なくとも一つの膜を用いることを特徴とする白金のエッチング方法。
IPC (2件)：
H01L 21/3065
, H01L 21/28
