特許

J-GLOBAL ID：200903031762913052

着色パターンの形成方法及びカラーフィルタの製造方法

発明者： 林 秀樹 ,  畠井 宗宏 ,  中田 昌一
出願人/特許権者： 積水化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-027276
公開番号（公開出願番号）：特開平11-223719
出願日： 1998年02月09日
公開日（公表日）： 1999年08月17日
要約：

【要約】【課題】 着色組成物を用いて、レーザー光照射法により、基板上に複数の色相の画素をパターン状に形成するカラーフィルタの製造方法において、画素の色純度が高く、各画素の側部での光抜けなどのない色品質に優れたカラーフィルタであって、液晶セル製造工程での歩留まりを向上させることができるカラーフィルタの製造方法を提供すること。【解決手段】 基板上の着色塗膜にレーザー光をパターン状に照射して、被照射部分を蒸散させることにより、着色パターンを形成する方法において、レーザー光を、所定の開口パターンを有するフォトマスクと結像レンズを介して、着色塗膜に照射し、その際、レーザー光の照射エネルギー密度Eと結像レンズの真の結像位置と着色塗膜表面との間のずれdを調整して、形成される各着色パターンの断面端部の斜面の幅aが5μm以下の範囲となるようにする着色パターンの形成方法。

請求項（抜粋）：

基板上の着色塗膜にレーザー光をパターン状に照射して、被照射部分を蒸散させることにより、着色パターンを形成する方法において、(1)レーザー光を、所定の開口パターンを有するフォトマスクと結像レンズを介して、着色塗膜に照射し、その際、(2)レーザー光の照射エネルギー密度Eが、式(I)E0≦E≦10E0 (I)(ただし、E0は、着色塗膜が蒸散される最低エネルギー密度である。)で示される関係を満足するように調整し、かつ、(3)結像レンズの真の結像位置と着色塗膜表面との間のずれdが、式(II)|d|≦50μm (II)で示される関係を満足するように、結像レンズと着色塗膜との間の距離を調整して、(4)形成される各着色パターンの断面端部の斜面の幅aが、式(III)a≦5μm (III)で示される関係を満足するように調整することを特徴とする着色パターンの形成方法。

IPC (3件)：

G02B 5/20 101 ,  B41M 5/38 ,  B23K 26/00

FI (3件)：

G02B 5/20 101 ,  B23K 26/00 G ,  B41M 5/26 101 Z