特許

J-GLOBAL ID：200903031764686800

投影光学系、当該投影光学系を備えた露光装置、及び当該露光装置を用いたマイクロデバイスの製造方法

発明者： 大村 泰弘
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 志賀 正武 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-160897
公開番号（公開出願番号）：特開2001-343582
出願日： 2000年05月30日
公開日（公表日）： 2001年12月14日
要約：

【要約】【課題】 極紫外の照明光を用いて第1面の像を第2面に好適な条件で結像することができる投影光学系を提供する。【解決手段】 第1面P1の像を第2面P2に結像する投影光学系において、第1面P1と第2面P2との間の光路に配置された第1の回折光学素子D1と、第1の回折光学素子D1よりも第2面P2側の光路に配置された第2の回折光学素子D2と、第1の回折光学素子P1と第2の回折光学素子P2との間の光路に配置された負のパワーを有する光学系G2とを具備することを特徴としている。

請求項（抜粋）：

第1面の像を第2面に結像する投影光学系において、前記第1面と前記第2面との間の光路に配置された第1の回折光学素子と、前記第1の回折光学素子よりも前記第2面側の光路に配置された第2の回折光学素子と、前記第1の回折光学素子と前記第2の回折光学素子との間の光路に配置された負のパワーを有する光学系とを具備することを特徴とする投影光学系。

IPC (5件)：

G02B 13/24 ,  G02B 5/18 ,  G02B 13/18 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

G02B 13/24 ,  G02B 5/18 ,  G02B 13/18 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 515 D

Fターム (31件)：

2H049AA04 ,  2H049AA18 ,  2H049AA37 ,  2H049AA45 ,  2H049AA48 ,  2H049AA55 ,  2H049AA64 ,  2H087KA21 ,  2H087NA02 ,  2H087NA04 ,  2H087NA14 ,  2H087PA15 ,  2H087PB20 ,  2H087QA02 ,  2H087QA03 ,  2H087QA07 ,  2H087QA17 ,  2H087QA19 ,  2H087QA22 ,  2H087QA25 ,  2H087QA32 ,  2H087QA33 ,  2H087QA41 ,  2H087QA45 ,  2H087RA05 ,  2H087RA12 ,  2H087RA13 ,  2H087RA46 ,  2H087UA04 ,  5F046CB27 ,  5F046DA12