特許
J-GLOBAL ID：200903031774387780
可撓性耐熱保護皮膜の形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
穂高 哲夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-180184
公開番号（公開出願番号）：特開平11-024264
出願日： 1997年07月04日
公開日（公表日）： 1999年01月29日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 半田耐熱性、耐金めっき性等に優れた可撓性耐熱保護皮膜の微細パターンを難燃性現像液を用いて形成する方法を提供する。【解決手段】 (A)ポリカーボネートジオール変性ジカルボン酸を必須成分として含んでなる多価カルボン酸成分を反応させて得られる不飽和イソシアネート変性不飽和基含有ポリアミド系樹脂、(B)光重合性不飽和化合物、(C)光重合開始剤及び(D)一般式(1)例 2-アミノ-5-メルカプト-1,3,4-チアジアゾールで示されるヘテロ環状メルカプタン化合物を含有してなる感光性樹脂組成物の皮膜を基板上に形成した後、像的露光を行い、次いで難燃性現像液を用いて、現像を行う可撓性耐熱保護皮膜の形成方法。
請求項（抜粋）：
(A)主鎖がアルキレン鎖とカーボネート基で構成されているポリカーボネートジオールで変性されたポリカーボネートジオール変性ジカルボン酸を必須成分として含んでなる多価カルボン酸成分(a)とジイソシアネート(b)とを当量比[(a)のカルボキシル基/(b)のイソシアネート基]が1を超える条件で反応させて得られるカルボキシル基含有ポリアミド系樹脂(c)に対して、エポキシ樹脂(d)を当量比[(d)のエポキシ基/(c)のカルボキシル基]が1以上となる条件で反応させて得られるエポキシ基含有ポリアミド系樹脂(e)及び/又は(e)に対してモノカルボン酸(f)を当量比[(f)のカルボキシル基/(e)のエポキシ基]が1以上となる条件で反応させて得られるエポキシ基封鎖型ポリアミド系樹脂(g)に対して、エチレン性不飽和基を有するイソシアネート単量体(h)を当量比[(h)のイソシアネート基/(e)及び/又は(g)の水酸基]が0.05〜2の範囲となる条件で反応させて得られる不飽和イソシアネート変性不飽和基含有ポリアミド系樹脂、(B)末端にエチレン性不飽和基を少なくとも1個有する光重合性不飽和化合物、(C)活性光の照射により遊離ラジカルを生成する光重合開始剤及び(D)一般式(1)【化1】(式中、Xは【化2】部分と共に5又は6原子を持つヘテロ環を形成する2価の基であって、単結合若しくは二重結合によって結合されているか1個の芳香環の一部を形成している2個又は3個の炭素原子、あるいは単結合若しくは二重結合によって結合されている2個の窒素原子、あるいは単結合若しくは二重結合によって結合されている1個の炭素原子と1個の窒素原子からなる主鎖を有し、Yは酸素原子、硫黄原子、炭素原子又は-NR-(但し、Rは水素又は炭素数1〜4のアルキル基である)で表される基を表し、X及びYは、それぞれ独立して炭素数1〜10のアルキル基、アミノ基、炭素数1〜10のアルキルアミノ基、カルボキシル基、フェニル基、メルカプト基又はハロゲン原子で置換されていてもよい)で示されるヘテロ環状メルカプタン化合物を含有してなる感光性樹脂組成物の皮膜を基板上に形成した後、像的露光を行い、次いで水と多価アルコール又は多価アルコールのアルキル若しくはアリールエーテルとの合計に対して水が5〜30容量%、多価アルコール又は多価アルコールのアルキル若しくはアリールエーテルが70〜95容量%、ホウ砂が溶液中濃度1〜15g/lからなる溶液にエナント酸ジエタノールアミドを難燃性現像液中0.1〜10重量%の範囲で添加した難燃性現像液を用いて、現像を行うことを特徴とする可撓性耐熱保護皮膜の形成方法。
IPC (9件)：
G03F 7/038 504
, C08F 2/48
, C08F290/06
, G03F 7/027 502
, G03F 7/028
, G03F 7/037 501
, G03F 7/32
, H05K 1/03 670
, H05K 3/28
G03F 7/038 504
, C08F 2/48
, C08F290/06
, G03F 7/027 502
, G03F 7/028
, G03F 7/037 501
, G03F 7/32
, H05K 1/03 670
, H05K 3/28 D
