ポリフエニレンスルフイドの製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-293166
公開番号（公開出願番号）：特開平5-125186
出願日： 1991年11月08日
公開日（公表日）： 1993年05月21日
要約：

【要約】【目的】押出の際、口金部分に付着する低分子量が少なく、口金汚れの少ない製膜性の良好なPPSの製造方法を提供する。【構成】温度315.6°Cでのメルトインデックスが0.5g/10分以上200g/10分以下であるポリフェニレンスルフィドを、酸素分圧が20mmHg以下の不活性雰囲気下、200°C以上融点以下の温度範囲で熱処理する。

請求項（抜粋）：

温度315.6°Cでのメルトインデックスが0.5g/10分以上200g/10分以下であるポリフェニレンスルフィドを、酸素分圧が20mmHg以下の不活性雰囲気下、200°C以上融点以下の温度範囲で熱処理することを特徴とするポリフェニレンスルフィドの製造方法。

引用特許：

審査官引用 (1件)

特開平4-339830

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