特許
J-GLOBAL ID:200903031808918488

気体の清浄方法及び装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 吉嶺 桂 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-216859
公開番号(公開出願番号):特開平6-205930
出願日: 1993年08月10日
公開日(公表日): 1994年07月26日
要約:
【要約】【目的】 単成分あるいは複合成分からなる有害ガスによる汚染に対して有効で、かつ微粒子除去機能も備えることのできる効果的な気体の清浄方法と装置を提供する。【構成】 有害成分を含む気体の清浄方法において、該気体を紫外線照射11して発生するオゾンと接触させた後、オゾン分解能及び有害物質吸着能をもつ複合酸化物系触媒12と接触させることとしたものであり、前記紫外線照射を光電子発生材13の存在下に行い、発生する光電子による気体中の微粒子の除去14を同時に行うこともでき、また、前記光電子放出材をスクリーン状光電子放出材とすることができる。
請求項(抜粋):
有害成分を含む気体の清浄方法において、該気体を紫外線照射して発生するオゾンと接触させた後、オゾン分解能及び有害物質吸着能をもつ複合酸化物系触媒と接触させることを特徴とする気体の清浄方法。
IPC (7件):
B01D 53/34 116 ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/32 ZAB ,  B01D 53/36 ZAB ,  B03C 3/38 ZAB ,  F24F 7/00 ,  B01D 53/02 ZAB
引用特許:
出願人引用 (4件)
全件表示
審査官引用 (5件)
全件表示

前のページに戻る