特許

J-GLOBAL ID：200903031818930893

電子ビーム装置における電子ビーム制御方法

発明者： 山田 篤
出願人/特許権者： 日本電子株式会社
代理人 (1件)： 井島 藤治 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-175426
公開番号（公開出願番号）：特開2001-006599
出願日： 1999年06月22日
公開日（公表日）： 2001年01月12日
要約：

【要約】【課題】 観察画面上の試料の構造に関わりなく、常に観察したい試料の構造部分のオートフォーカス等の動作を高い精度で行うことができる電子ビーム装置における電子ビーム制御方法を実現する。【解決手段】 オートフォーカス動作の際には、あらかじめ試料5の表面構造に応じて、オートフォーカスを行うのに最適な電子ビームの走査パターンの選択が行われる。走査パターンメモリー32には、複数の走査パターンデータが格納されており、複数の走査パターンにより読み取られた画像上の所定領域の走査を行う。各走査パターンによる走査に基づいて得られた信号は積算ユニットで積算され、各積算値の比較が処理ユニット33で行われる。処理ユニットではこの比較により、最適な走査パターンを選択し、オートフォーカス動作は選択された走査パターンにより実行される。

請求項（抜粋）：

試料上の電子ビームのフォーカスの状態を段階的に変化させるステップ、各段階における試料上の特定領域の電子ビームの走査に基づいて得られた検出信号を積算するステップ、積算値を比較することによって最大の積算値が得られたフォーカスの状態に電子ビームを制御するステップより成る電子ビーム制御方法において、あらかじめ複数の異なった走査パターンを準備し、あらかじめ読み取った画像上でそれぞれの走査パターン毎にスキャンに沿った値をデータ積算することを特徴とする電子ビーム装置における電子ビーム制御方法。

IPC (3件)：

H01J 37/21 ,  G02B 7/28 ,  H01J 37/153

FI (4件)：

H01J 37/21 B ,  H01J 37/153 B ,  G02B 7/11 N ,  G02B 7/11 J

Fターム (12件)：

2H051AA11 ,  2H051BA47 ,  2H051CE14 ,  2H051DA01 ,  2H051DA31 ,  2H051DB01 ,  2H051FA48 ,  2H051GB12 ,  5C033JJ01 ,  5C033JJ02 ,  5C033MM04 ,  5C033MM05