特許
J-GLOBAL ID：200903031819935325
基板処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
下出 隆史 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-301240
公開番号（公開出願番号）：特開平7-125807
出願日： 1993年11月05日
公開日（公表日）： 1995年05月16日
要約：
【要約】【目的】 基板処理装置10は、複数のカセット300から基板Wを取り出すと共に、基板Wを回転させかつ幅寄せする動作を短時間で行う。【構成】 基板移載部40は、カセット載置テーブル44に2個のカセット300を載置した状態にて、昇降駆動装置130により第1及び第2基板受け渡し具50A,50Bを下降位置から上昇位置まで上昇させて、カセット300から基板Wを取り出して上昇位置にて保持する。続いて、回転スライド装置60は、第1及び第2回転用シリンダ90A,90Bを同時に駆動してガイド板66の第1及び第2ガイド溝68A,68Bにガイドさせることにより、第1及び第2基板受け渡し具50Aを、上昇位置にある両基板Wが互いに向き合う方向へ90 ゚回転させつつその距離を狭める方向へスライドさせる。そして、両基板Wは、基板搬送ロボットにより搬送される。
請求項（抜粋）：
下部開口を有し、複数の基板からなる基板群を起立整列状態で収容する複数のカセットから、該基板群をそれぞれ取り出して整列させて他の処理手段へ搬送する基板処理装置において、第1及び第2カセットを保持する第1及び第2カセット保持部をそれぞれ有するカセット保持手段と、第1カセット保持部の下方位置から上昇位置まで昇降可能に設けられ、第1基板群を起立整列状態で保持する第1基板載置部分を有する第1基板受け渡し具と、第2カセット保持部の下方位置から上昇位置まで昇降可能に設けられ、第2基板群を起立整列状態で保持する第2基板載置部分を有する第2基板受け渡し具と、上記第1及び第2基板受け渡し具を下降位置から上昇位置の間で昇降駆動する昇降手段と、上記昇降手段の上昇駆動により第1及び第2基板受け渡し具を介して両基板群を上昇位置で保持した状態にて、両基板群を互いに向きあう方向へ90 ゚回転させつつ両基板群の距離を狭める方向へスライドさせる回転幅寄せ動作を行なう回転スライド手段と、第1及び第2基板受け渡し具からその上昇位置で保持されかつ上記回転スライド手段により回転幅寄せされた両基板群を受け取って搬送する基板搬送手段と、を具備することを特徴とする基板処理装置。
IPC (4件)：
B65G 1/00 549
, B65G 49/07
, H01L 21/306
, H01L 21/68
