特許
J-GLOBAL ID:200903031841025642
X線露光装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
高田 守
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-308706
公開番号(公開出願番号):特開平5-217860
出願日: 1992年11月18日
公開日(公表日): 1993年08月27日
要約:
【要約】【目的】 シンクロトロン放射光やアンジュレーター放射光やウイグラー放射光を有効に集光することにより露光面上のX線強度を充分に大きくでき、さらに露光領域にわたって限りなく直入射に近い状態の露光X線を照射することができるX線露光装置を得る。【構成】 適当な曲率をもって曲げた細管の内壁面での反射によってX線を曲げる作用を有する複数の細管8を光源点2から放射するX線を取り込むことができるように上記各細管のX線入射端部が電子ビームの軌道1近傍に沿うと共にX線出射端部がX線光学系の主光軸3に並行になるように配置した細管束を備える。
請求項(抜粋):
ストレージリングを周回する電子ビームによって水平方向及び垂直方向に発散角を持ってX線を放射する光源点が上記電子ビームの軌道上に分布するX線源、並びに適当な曲率をもって曲げた細管の内壁面での反射によってX線を曲げる作用を有する複数の細管を上記光源点から放射するX線を取り込むことができるように上記各細管のX線入射端部が上記電子ビームの軌道近傍に沿うと共にX線出射端部がX線光学系の主光軸に並行になるように配置した細管束を備えることを特徴とするX線露光装置。
IPC (3件):
H01L 21/027
, G03F 7/20 503
, G03F 7/20 521
前のページに戻る