特許

J-GLOBAL ID：200903031842103272

表示素子用基板への樹脂膜形成法及び装置、並びに該方法を用いた液晶表示装置の製造方法

発明者： 櫻井 芳亘 ,  岩井 義夫 ,  山中 泰彦 ,  廣瀬 貴司 ,  坊下 純二
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 青山 葆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-373332
公開番号（公開出願番号）：特開2001-188357
出願日： 1999年12月28日
公開日（公表日）： 2001年07月10日
要約：

【要約】【課題】 プリベーク工程における乾燥ムラを抑制することができる感光性樹脂膜の形成法を提供すること。【解決手段】 基板に所定の膜厚で樹脂溶液を塗布し、40〜65°C程度の低温で第1のプリベーキングを行った後に、80〜130°C程度の高温で第2のプリベーキングを行うことにより、樹脂膜の乾燥ムラを抑制することができる。またさらに、上記第1のプリベーキング又は第2のプリベーキングにおいて、加熱装置と基板の間に空隙を設け、その空隙にイオン風を送出することにより、乾燥ムラの発生を抑制しながら、基板上に形成した半導体素子の静電破壊を防止することができる。

請求項（抜粋）：

基板に所定の膜厚で樹脂溶液を塗布し、プリベーキングして溶媒を蒸発させた後に、ポストベーキングして硬化する表示素子用基板への樹脂膜形成法であって、上記プリベーキングが、所定の加熱温度T1で行う第1のプリベーキングと、前記T1よりも高い加熱温度T2で行う第2のプリベーキングとから成る表示素子用基板への樹脂膜形成法。

IPC (2件)：

G03F 7/38 501 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 7/38 501 ,  H01L 21/30 567

Fターム (7件)：

2H096AA27 ,  2H096DA01 ,  2H096HA01 ,  5F046JA22 ,  5F046JA24 ,  5F046KA01 ,  5F046KA10