特許
J-GLOBAL ID:200903031853720494

ケイ素化合物の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 恩田 博宣
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-050159
公開番号(公開出願番号):特開2000-247981
出願日: 1999年02月26日
公開日(公表日): 2000年09月12日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 暴走反応を抑制して安定した状態で反応を行うことができるとともに、効率良くケイ素化合物を得ることができるケイ素化合物の製造方法を提供する。【解決手段】 下記式(III) に示すケイ素化合物は、下記式(I)に示す化合物のアリル基と、下記式(II)に示すヒドロシリル基とを、触媒の存在下にヒドロシリレーション反応させることにより製造される。このとき、反応温度が70°Cを越えて100°C以下の温度範囲内に制御される。また、ヒドロシリレーション反応は、反応開始から反応終了に至るまで前記式(I)に示す化合物の量が、式(II)に示す化合物の量に対して過剰となる条件下で行われる。(但し、Rは水素又は炭素数1〜6のアルキル基である。)(但し、R′はアルコキシ基、アリールオキシ基、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基である。)(但し、R、R′は前述のとおりである。)
請求項(抜粋):
下記式(I)に示す構造式で表される化合物のアリル基と、下記式(II)に示す構造式で表される化合物のヒドロシリル基とを、触媒の存在下に、反応温度を70°Cを越えて100°C以下の範囲内に保持しつつ、ヒドロシリレーション反応させて下記式(III) に示す構造式で表されるケイ素化合物を得ることを特徴とするケイ素化合物の製造方法。【化1】(但し、Rは水素又は炭素数1〜6のアルキル基である。)【化2】(但し、R′はアルコキシ基、アリールオキシ基、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基である。)【化3】(但し、Rは水素又は炭素数1〜6のアルキル基であり、R′はアルコキシ基、アリールオキシ基、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基である。)
IPC (3件):
C07F 7/08 ,  C07F 7/18 ,  C08G 65/22
FI (3件):
C07F 7/08 S ,  C07F 7/18 S ,  C08G 65/22
Fターム (23件):
4H049VN01 ,  4H049VP01 ,  4H049VQ02 ,  4H049VQ19 ,  4H049VQ20 ,  4H049VQ58 ,  4H049VR21 ,  4H049VR23 ,  4H049VR24 ,  4H049VR41 ,  4H049VR43 ,  4H049VS11 ,  4H049VS23 ,  4H049VS41 ,  4H049VS43 ,  4H049VT17 ,  4H049VU20 ,  4H049VU21 ,  4H049VU22 ,  4H049VV02 ,  4H049VV16 ,  4H049VW32 ,  4J005AA07
引用特許:
審査官引用 (4件)
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