特許

J-GLOBAL ID：200903031875102220

抵抗体膜のトリミング方法

発明者： 有川 浩幸 ,  八木 隆茂
出願人/特許権者： 京セラ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-251630
公開番号（公開出願番号）：特開平9-097707
出願日： 1995年09月28日
公開日（公表日）： 1997年04月08日
要約：

【要約】【課題】 厚膜抵抗体膜の所定抵抗値に、確実に調整できるとともに、厚膜抵抗体膜中に流れる電流を安定化させることができる抵抗体のレーザートリミング方法を提供する。【解決手段】絶縁基板1上に厚膜抵抗体膜3を形成し、この厚膜抵抗体膜3をレーザー照射・走査によって、概略U字状のトリミング溝31〜34を形成して、所定抵抗値に調整する抵抗体トリミング方法である。この複数のトリミング溝31〜34は、互いに多重に重畳しあい、且つ有効な外周トリミング溝には、トリミング溝どうしの交差部分が1箇所のみ存在するように形成される。

請求項（抜粋）：

長手方向の両端に電極が接続されている厚膜抵抗体膜の一方の長手方向側の辺に、レーザー照射による少なくとも3つの概略U字状のトリミング溝を順次形成することによって厚膜抵抗体膜の抵抗値を所定値に調整する抵抗体膜のトリミング方法であって、2回目以降のトリミング溝を、前一回のトリミング溝と1点で交差するようにし、且つ3回目以降のトリミング溝は、前記交差する部分を内側に包含するようにしたことを特徴とする抵抗体膜のトリミング方法。