IgE産生抑制剤

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：遠山勉 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-237679
公開番号（公開出願番号）：特開2002-047176
出願日： 2000年08月04日
公開日（公表日）： 2002年02月12日
要約：

【要約】【課題】 IgEが関与する皮膚症状等の治療に用いることができる新規なIgE産生抑制剤を提供する【解決手段】 γ-リノレン酸、ジホモ-γ-リノレン酸及びこれらの誘導体から選ばれる一種または二種以上を、IgE産生抑制剤の有効成分とする。

請求項（抜粋）：

γ-リノレン酸、ジホモ-γ-リノレン酸及びこれらの誘導体から選ばれる一種または二種以上を有効成分として含有するIgE産生抑制剤。

IPC (3件)：

A61K 31/19 , A61P 17/00 , A61P 37/08

FI (3件)：

A61K 31/19 , A61P 17/00 , A61P 37/08

Fターム (10件)：

4C206AA01 , 4C206AA02 , 4C206DA04 , 4C206DA05 , 4C206MA02 , 4C206MA04 , 4C206MA83 , 4C206NA14 , 4C206ZA89 , 4C206ZB13

引用文献：

審査官引用 (2件)

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