特許

J-GLOBAL ID：200903031884371161

荷電粒子線露光方法及び装置

発明者： 甲斐 潤一 ,  安田 洋 ,  中野 光浩
出願人/特許権者： 富士通株式会社 ,  富士通ヴィエルエスアイ株式会社
代理人 (1件)： 伊東 忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-209067
公開番号（公開出願番号）：特開平5-198487
出願日： 1992年08月05日
公開日（公表日）： 1993年08月06日
要約：

【要約】【目的】 試料が載置されたステージを連続的に移動させて描画するべきパターンに応じて荷電粒子線を偏向して荷電粒子線により試料上にパターンを描画する荷電粒子線露光方法及び装置に関し、より高精度にパターンを描画することを目的とする。【構成】 ステージ(35)を試料(36)の座標系の軸と平行に移動する。又、ステージ(35)の座標系と試料(36)の座標系との間のずれを考慮して偏向データに補正演算を行う。

請求項（抜粋）：

試料(36)が載置されたステージ(35)を連続的に移動させて、描画するべきパターンに応じて荷電粒子線を偏向手段(33,34)を偏向して荷電粒子線により該試料(36)上にパターンを描画する荷電粒子線露光方法において、該ステージ(35)を該試料(36)の座標系の軸と平行に移動するステップ(S1)と、該ステージ(35)の目標位置に対して該試料(36)上における描画するべきパターンを含むパターン領域の基準位置の位置座標を求めて該ステージ(35)の座標系としての第1の偏向データD1 を生成すると共に、該試料(36)上における描画するべきパターンのそのパターンが含まれるパターン領域の基準位置からの位置座標を表わす該試料(36)の座標系としての偏向データD2 を得るステップ(S2)と、該第1の偏向データD1 に対しては露光装置が固有に持つパターンのゆがみを補正する第1の補正演算を行うと共に、該第2の偏向データD2 に対しては該ステージ(35)の座標系への変換を行った後第1の補正演算に加えて該試料(36)が移動することによって生じる該ステージ(35)に対するローテーション誤差分の補正を含む第2の補正演算を行うステップ(S3)と、補正された第1の偏向データD1 ’及び第2の偏向データD2 ’を加算して、描画するべきパターンの該ステージ(35)の現在位置からの位置座標を表わす第3の偏向データD3 ’を求めるステップ(S4)と、該第3の偏向データD3 ’に基づいて該偏向手段(33,34)を制御するステップ(S5)とを含むことを特徴とする荷電粒子線露光方法。