特許
J-GLOBAL ID:200903031885344729
5-メチレン-1,3-ジオキソラン-4-オン誘導体、その製造方法、上記誘導体を重合して得られる重合体、レジスト組成物、および、パターン形成方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (4件):
宮崎 昭夫
, 金田 暢之
, 伊藤 克博
, 石橋 政幸
公報種別:再公表公報
出願番号(国際出願番号):JP2002010938
公開番号(公開出願番号):WO2003-035637
出願日: 2002年10月22日
公開日(公表日): 2003年05月01日
要約:
本発明の5-メチレン-1,3-ジオキソラン-4-オン誘導体は、下記式(1)で表されるものであり、光透過性、熱安定性に優れた単独重合体及び共重合体が得られる新規な単量体である。また、式(1)で表される誘導体を含むモノマー組成物を(共)重合して得られる重合体は、感度、解像度及びドライエッチング耐性といったレジスト性能、有機溶媒に対する溶解性に優れ、ラインエッジラフネスが少なく、レジスト組成物用樹脂として好適である。(式(1)中、R1は炭素数4〜16の橋かけ環式炭化水素基等、R2は水素原子等を示す。)
請求項(抜粋):
下記式(1)で表される5-メチレン-1,3-ジオキソラン-4-オン誘導体。
IPC (8件):
C08F24/00
, C07D317/34
, C07D317/42
, C07D317/72
, C08F220/12
, C08F220/28
, G03F7/039
, H01L21/027
FI (8件):
C08F24/00
, C07D317/34
, C07D317/42
, C07D317/72
, C08F220/12
, C08F220/28
, G03F7/039 601
, H01L21/30 502R
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