特許
J-GLOBAL ID:200903031912413002
感光性透明導電膜形成用塗布液、パターン化された透明導電膜および該透明導電膜の製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
内田 幸男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-195685
公開番号(公開出願番号):特開2002-015631
出願日: 2000年06月29日
公開日(公表日): 2002年01月18日
要約:
【要約】【課題】 安定性に優れた感光性透明導電膜形成用塗布液であって、化学的安定性、パターン加工精度および成膜作業性がよい塗布液を提供する。【解決手段】 錫(Sn)化合物に、または錫(Sn)化合物とアンチモン(Sb)化合物に有機配位子が配位したキレート錯体と、紫外線硬化型または紫外線崩壊型の感光性樹脂と、溶剤とを少なくとも含有する感光性透明導電膜形成用塗布液。この塗布液を基板上に塗布、乾燥し、該乾燥膜上にフォトマスクを設置し、紫外線にて露光後、現像してパターン化し、400°C以上で焼成することによって、パターン化された透明導電膜が製造される。
請求項(抜粋):
錫(Sn)化合物に有機配位子が配位したキレート錯体と、紫外線硬化型または紫外線崩壊型の感光性樹脂と、溶剤とを少なくとも含有することを特徴とする感光性透明導電膜形成用塗布液。
IPC (10件):
H01B 13/00 503
, H01B 13/00
, C09D 5/00
, C09D 7/12
, C09D201/00
, G02F 1/1343
, G03F 7/004 501
, G03F 7/40 501
, H01B 1/20
, H01B 5/14
FI (10件):
H01B 13/00 503 B
, H01B 13/00 503 C
, C09D 5/00 Z
, C09D 7/12
, C09D201/00
, G02F 1/1343
, G03F 7/004 501
, G03F 7/40 501
, H01B 1/20 A
, H01B 5/14 A
Fターム (40件):
2H025AA00
, 2H025AB17
, 2H025AC01
, 2H025AD01
, 2H025AD03
, 2H025CC03
, 2H025CC09
, 2H025FA03
, 2H025FA17
, 2H025FA29
, 2H092HA03
, 2H092MA10
, 2H092MA14
, 2H092NA11
, 2H092NA27
, 2H092NA29
, 2H096AA27
, 2H096BA01
, 2H096BA09
, 2H096BA20
, 2H096EA02
, 2H096GA08
, 4J038JC38
, 4J038JC41
, 4J038KA06
, 4J038KA12
, 4J038NA01
, 4J038NA20
, 4J038PA17
, 4J038PA19
, 4J038PB09
, 5G301DA22
, 5G301DA42
, 5G301DD02
, 5G307FA01
, 5G307FB01
, 5G307FC03
, 5G323BA04
, 5G323BB01
, 5G323BC01
引用特許:
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