特許

J-GLOBAL ID：200903031918109020

防汚層の形成方法

発明者： 伊橋 紀孝 ,  大畑 浩一 ,  富川 典俊
出願人/特許権者： 凸版印刷株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-118824
公開番号（公開出願番号）：特開2000-308846
出願日： 1999年04月26日
公開日（公表日）： 2000年11月07日
要約：

【要約】【課題】各種光学部材などの被処理基材の表面を前処理を行うことによって、耐防汚性、耐擦傷性、耐溶剤性等に優れた防汚層を短時間に形成することが叫ばれており、この課題の解決を目的とする。【解決手段】被処理基材上の少なくとも片面に、防汚剤を用いて防汚層を形成する方法であって、前記防汚層を形成する前に、前記被処理基材上の少なくとも片面を前処理し、この前処理した表面に防汚層を成膜する方法を提供する。

請求項（抜粋）：

被処理基材上の少なくとも片面に、防汚剤を用いて防汚層を形成する方法であって、前記防汚層を形成する前に、前記被処理基材上の少なくとも片面を前処理し、この前処理した表面に防汚層を成膜することを特徴とする防汚層の形成方法。

IPC (9件)：

B05D 5/00 ,  B05D 3/10 ,  B05D 7/00 ,  B08B 17/02 ,  C09D 5/16 ,  C09D183/00 ,  C09K 3/00 112 ,  C09K 3/18 104 ,  G02B 1/10

FI (9件)：

B05D 5/00 H ,  B05D 3/10 E ,  B05D 7/00 E ,  B08B 17/02 ,  C09D 5/16 ,  C09D183/00 ,  C09K 3/00 112 F ,  C09K 3/18 104 ,  G02B 1/10 Z

Fターム (28件)：

2K009BB01 ,  2K009CC42 ,  2K009DD03 ,  2K009DD08 ,  2K009EE05 ,  3B117AA08 ,  4D075BB21X ,  4D075BB47X ,  4D075BB49X ,  4D075BB81X ,  4D075BB85X ,  4D075CA34 ,  4D075DA06 ,  4D075DB13 ,  4D075DC24 ,  4D075EA05 ,  4D075EB42 ,  4D075EB52 ,  4H020BA36 ,  4J038DF041 ,  4J038GA02 ,  4J038GA15 ,  4J038NA04 ,  4J038NA05 ,  4J038NA11 ,  4J038PB08 ,  4J038PC03 ,  4J038PC08

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 表面改質膜用組成物、表面改質膜、表示装置用フィルター及び表示装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-276358   出願人：ソニー株式会社
• 液晶表示装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-113202   出願人：セイコーエプソン株式会社