特許
J-GLOBAL ID：200903031919411242
水の処理方法及び装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伊藤 捷雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-203309
公開番号（公開出願番号）：特開平5-115898
出願日： 1991年07月19日
公開日（公表日）： 1993年05月14日
要約：
【要約】【目的】 プロセスや構造を可及的に簡単にし、水を使用する場所ならばどこでも容易に実施し、安価かつ手軽に設置して水を活性化し、分子集団を小さくすることのできる、水とくに水道水の処理方法並びに装置を提供すること。【構成】 方法としては、給水管内を流れる被処理水に空気を混合させ、次いで出口より噴出させて固定磁石板に衝突させるか、或は給水管内を流れる被処理水をシャワー出口より勢いよく噴出させて固定磁石板へ衝突させ、次いで遠赤外線放射体による遠赤外線照射を行うものである。装置としては、被処理水を流通させる給水管へ接続させた空気混入用のエジェクターと、前記給水管の噴出に対向させて設けた固定磁石板と、この固定磁石板を設置した貯水槽と、この貯水槽の処理水の水位を検知する水位検知手段と、前記貯水槽内に設置した遠赤外線放射体とで構成したものである。さらに、固定磁石板へ被処理水を衝突させるのに、給水管の出口に設けたシャワー装置からの噴出水を用いても良い。
請求項（抜粋）：
給水管内を流れる被処理水に空気を混合させて超音波処理を行い、次いで出口より噴出させて固定磁石板に衝突させて磁気処理を行い、次いでこの落下水を遠赤外線放射体を設置した貯水槽内において一時滞溜させて遠赤外線処理を行うことを特徴とする、水の処理方法。
IPC (4件)：
C02F 9/00
, C02F 1/30
, C02F 1/36
, C02F 1/48
