特許
J-GLOBAL ID：200903031924406575
露光マスク
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
有我 軍一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-043449
公開番号（公開出願番号）：特開平7-253655
出願日： 1994年03月15日
公開日（公表日）： 1995年10月03日
要約：
【要約】【目的】 横方向の寸法精度が良好で、しかも安定した均一な組成の半透明部を構成する薄膜を容易に形成することができる。【構成】 光を透過する透明部1と、光を若干透過する半透明部とからなる半導体基板露光用のマスクにおいて、該半透明部を、透明で屈折率の異なる材質からなる2つの薄膜2a,2bを交互に積層した多層膜によって形成し、該2つの薄膜2a,2bの各々の膜厚を、露光波長÷屈折率÷4で設定し、該2つの薄膜2a,2bを対にした積層数を奇数にしてなる。
請求項（抜粋）：
光を透過する透明部(1)と、光を若干透過する半透明部とからなる半導体基板露光用のマスクにおいて、該半透明部を、透明で屈折率の異なる材質からなる2つの薄膜(2a,2b)を交互に積層した多層膜によって形成し、該2つの薄膜(2a,2b)の各々の膜厚を、露光波長÷屈折率÷4で設定し、該2つの薄膜(2a,2b)を対にした積層数を奇数にしてなることを特徴とする露光マスク。
IPC (2件)：
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