ポジ型レジスト組成物

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：小栗昌平 , 本多弘徳 , 市川利光 , 高松猛 , 栗宇百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-285486
公開番号（公開出願番号）：特開2004-125835
出願日： 2002年09月30日
公開日（公表日）： 2004年04月22日
要約：

【課題】160nm以下、特にF2エキシマレーザー光(157nm)の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には157nmの光源使用時に十分な透過性を示し、且つラインエッジラフネス、現像欠陥及びスカムが少ないポジ型レジスト組成物を提供することである。【解決手段】(A)側鎖に特定のノルボルナン構造をもったノルボルネン系繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(A)下記一般式(A1)又は(A2)で表される繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び (B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (3件)：

G03F7/039 , C08F32/04 , H01L21/027

FI (3件)：

G03F7/039 601 , C08F32/04 , H01L21/30 502R

Fターム (57件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AA04 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE07 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB08 , 2H025CB41 , 2H025CB45 , 2H025CB55 , 2H025CB56 , 2H025CC03 , 2H025FA17 , 4J100AB07Q , 4J100AC26R , 4J100AL24R , 4J100AL26Q , 4J100AR09Q , 4J100AR11P , 4J100AR11Q , 4J100BA02P , 4J100BA02Q , 4J100BA03P , 4J100BA03Q , 4J100BA05P , 4J100BA05Q , 4J100BA06P , 4J100BA15P , 4J100BA15Q , 4J100BA16P , 4J100BA16Q , 4J100BA22P , 4J100BA22Q , 4J100BB18P , 4J100BB18Q , 4J100BC04Q , 4J100BC08P , 4J100BC08Q , 4J100BC09P , 4J100BC09Q , 4J100BC12Q , 4J100BC43Q , 4J100CA04 , 4J100CA05 , 4J100DA01 , 4J100DA04 , 4J100DA28 , 4J100FA00 , 4J100GC10 , 4J100JA37 , 4J100JA38

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