CVD用原料化合物及びその製造方法並びにルテニウム又はルテニウム化合物薄膜の化学気相蒸着方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：田中大輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-243927
公開番号（公開出願番号）：特開2003-055294
出願日： 2001年08月10日
公開日（公表日）： 2003年02月26日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】有機ルテニウム化合物を主成分とするCVD用原料化合物において、低融点で溶媒に対する溶解性に優れると共に、モホロジーの良好な薄膜を形成可能なCVD原料化合物及びその製造方法を提供する。【解決手段】本発明は、有機ルテニウム化合物を主成分とするCVD用原料化合物において、次式で示されるトリス(2,4-オクタジオナト)ルテニウム(III)のシス体又はトランス体のいずれか1の有機ルテニウム化合物のみよりなるものである。このシス体又はトランス体のみからなる化合物は、任意の方法で製造されるトリス(2,4-オクタジオナト)ルテニウム(III)をアルミナを含む吸着剤に吸着させる工程と、該吸着剤と第1の溶媒とを接触させることによりトランス体を溶出させ、更に吸着剤と該第1の溶媒より極性の大きい第2の溶媒とを接触させることにより分離可能である。

請求項（抜粋）：

有機ルテニウム化合物を主成分とするCVD用原料化合物において、前記有機ルテニウム化合物は、次式で示されるトリス(2,4-オクタジオナト)ルテニウム(III)のシス体又はトランス体のいずれか1の有機ルテニウム化合物のみよりなることを特徴とするCVD用原料化合物。【化1】

IPC (6件)：

C07C 49/92 , C07C 45/79 , C23C 16/18 , H01L 21/28 301 , H01L 21/285 , C07F 15/00

FI (6件)：

C07C 49/92 , C07C 45/79 , C23C 16/18 , H01L 21/28 301 Z , H01L 21/285 C , C07F 15/00 A

Fターム (17件)：

4H006AA03 , 4H006AB78 , 4H006AB91 , 4H050AA03 , 4H050AB78 , 4H050AB91 , 4H050WB13 , 4H050WB21 , 4K030AA11 , 4K030BA01 , 4K030CA04 , 4K030EA01 , 4K030FA10 , 4K030LA15 , 4M104BB04 , 4M104DD43 , 4M104DD45

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