特許
J-GLOBAL ID:200903031931154158
研磨用スラリー
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
矢口 平
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-131833
公開番号(公開出願番号):特開平9-316431
出願日: 1996年05月27日
公開日(公表日): 1997年12月09日
要約:
【要約】【課題】 研磨能と洗浄性に優れ、かつ繰返し使用に耐える長寿命のCMP用の研磨用スラリーを提供する。【解決手段】 水酸化セシウム(CsOH)を含むアルカリ水溶液中に研磨材を分散させる。さらに塩化セシウム(CsCl)又はギ酸セシウム(CsCOOH)を併用して、繰返し使用しても研磨特性の劣化しにくい研磨用スラリーを提供する。
請求項(抜粋):
水酸化セシウムを含む水溶液中に研磨剤を分散させたことを特徴とする研磨用スラリー。
IPC (4件):
C09K 3/14 550
, C09K 3/14
, B24B 37/00
, H01L 21/304 321
FI (4件):
C09K 3/14 550 Z
, C09K 3/14 550 D
, B24B 37/00 H
, H01L 21/304 321 P
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