特許

J-GLOBAL ID：200903031931536360

走査型露光装置及びそれを用いたデバイス製造方法

発明者： 佐藤 光弥
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-024701
公開番号（公開出願番号）：特開平7-254559
出願日： 1995年01月18日
公開日（公表日）： 1995年10月03日
要約：

【要約】【目的】 パルス光光源のエネルギ制御を良好に行い、高精度な半導体デバイスの製造が可能な走査型露光装置及びそれを用いたデバイス製造方法を得ること。【構成】 パルス光に対してマスクと基板とを相対的に走査する走査手段、前記マスクを介して前記基板に多数個のパルス光を連続的に照射する光照射手段、そして前記多数個のパルス光において所定の数の連続するパルス光の光量の平均値を目標値に実質的に一致させるように、先に照射した複数のパルス光の積算光量に応じて次に照射するパルス光の光量を調節して前記基板に対する露光量を制御する制御手段、とを有していること。

請求項（抜粋）：

パルス光に対してマスクと基板とを相対的に走査する走査手段、前記マスクを介して前記基板に多数個のパルス光を連続的に照射する光照射手段、そして前記多数個のパルス光において所定の数の連続するパルス光の光量の平均値を目標値に実質的に一致させるように、先に照射した複数のパルス光の積算光量に応じて次に照射するパルス光の光量を調節して前記基板に対する露光量を制御する制御手段、とを有していることを特徴とする走査型露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03B 27/32 ,  G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 518 ,  H01L 21/30 516 D

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平4-007883
  
• 特開昭60-158449
  
• 特開平4-007883
  
• 特開昭60-158449