特許

J-GLOBAL ID：200903031933249393

ネガ型感光性組成物およびこれを用いたパターンの形成方法

発明者： 落合 為一 ,  高橋 徳明 ,  亀山 泰弘
出願人/特許権者： 三菱化成株式会社
代理人 (1件)： 岡田 數彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-236532
公開番号（公開出願番号）：特開平5-232702
出願日： 1992年08月12日
公開日（公表日）： 1993年09月10日
要約：

【要約】【構成】(a-1)化学式[1]-OCH2 OR1 (R1 はアルキル基を表す)で表される有機基を分子内に2個以上有する化合物およびアルカリ可溶性樹脂、または(a-2)上記の化学式[1]で表される有機基を分子内に2個以上有するアルカリ可溶性樹脂と、(b)光酸発生剤とを含有するネガ型感光性組成物およびこれを用いたパターンの形成方法。【効果】ディープUV領域の短波長露光および位相シフト法による露光が可能であり、現像時に膨潤を起こさず、しかも、ハーフミクロンリソグラフィーに対応できるパターンプロフィール与える、ネガ型フォトレジストとして好適なネガ型感光性組成物が提供される。特に、本発明のネガ型感光性組成物は、超LSI及びIC製造用のフォトレジストとして極めて有用である。

請求項（抜粋）：

(a-1)化学式[1]-OCH2 OR1 (R1 はアルキル基を表す)で表される有機基を分子内に2個以上有する化合物およびアルカリ可溶性樹脂、または、(a-2)上記の化学式[1]で表される有機基を分子内に2個以上有するアルカリ可溶性樹脂と、(b)光酸発生剤とを含有することを特徴とするネガ型感光性組成物。

IPC (5件)：

G03F 7/038 505 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/029 ,  G03F 7/38 511 ,  H01L 21/027