特許
J-GLOBAL ID：200903031935846011

反射防止フィルムの製造方法、反射防止フィルム、それを用いた偏光板及びそれらを用いた画像表示装置

発明者：
加藤 進也

加藤 進也 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (4件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-258099
公開番号（公開出願番号）：特開2006-126799
出願日： 2005年09月06日
公開日（公表日）： 2006年05月18日
要約：
【課題】 光学機能層の層厚分布が一定で、反射防止性能に優れ、耐湿性及び耐候性に優れた反射防止フィルムを製造する。【解決手段】 透明支持体上に、該透明支持体と異なる屈折率を有する少なくとも1層の光学機能層を塗設する反射防止フィルムの製造方法において、前記光学機能層の少なくとも1層を、(1)熱及び/又は電離放射線硬化性化合物、無機微粒子及び有機溶媒を含有し、固形分濃度が3〜15質量%で、25°Cにおける粘度が0.5〜3.5mPa・sの塗布組成物を、ウェット塗布量2.5〜5ml/m2で塗布する工程、及び(2)乾燥温度15°C以上35°C未満で、乾燥速度を0.05〜1.0g/m2・secとして乾燥する乾燥工程と、乾燥温度50°C以上130°C以下で乾燥する乾燥工程とを含む乾燥工程を含んで製造することを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
透明支持体上に、該透明支持体と異なる屈折率を有する少なくとも1層の光学機能層を塗設する反射防止フィルムの製造方法において、前記光学機能層の少なくとも1層を、下記(1)及び(2)の工程を含む製造方法により製造することを特徴とする、反射防止フィルムの製造方法。 (1)熱および/または電離放射線硬化性化合物、無機微粒子及び有機溶媒を含有し、固形分濃度が3〜15質量%で、25°Cにおける粘度が0.5〜3.5mPa・sの塗布組成物を、ウェット塗布量2.5〜5ml/m2で塗布する工程 (2)乾燥温度15°C以上35°C未満で、乾燥速度を0.05〜1.0g/m2・secとして乾燥する乾燥工程(A)と、乾燥温度50°C以上130°C以下で乾燥する乾燥工程(B)とを含む乾燥工程
IPC (5件)：
G02B 1/11 ,  B05D 3/02 ,  B05D 5/06 ,  B32B 7/02 ,  G02B 5/30
FI (5件)：
G02B1/10 A ,  B05D3/02 Z ,  B05D5/06 D ,  B32B7/02 103 ,  G02B5/30
Fターム (70件)：
2H049BA02 ,  2H049BA06 ,  2H049BA42 ,  2H049BB03 ,  2H049BB65 ,  2H049BC22 ,  2K009AA06 ,  2K009CC03 ,  2K009CC21 ,  2K009DD02 ,  2K009DD05 ,  2K009DD06 ,  4D075AC02 ,  4D075AE03 ,  4D075BB24 ,  4D075BB93 ,  4D075BB95 ,  4D075CB02 ,  4D075DB33 ,  4D075DC24 ,  4D075EA19 ,  4D075EA21 ,  4D075EB22 ,  4D075EB35 ,  4D075EB52 ,  4D075EB56 ,  4D075EC01 ,  4D075EC07 ,  4D075EC24 ,  4D075EC51 ,  4D075EC53 ,  4F100AA01B ,  4F100AA01H ,  4F100AA21H ,  4F100AJ06 ,  4F100AK01B ,  4F100AK01C ,  4F100AK01D ,  4F100AK25 ,  4F100AR00A ,  4F100BA02 ,  4F100BA03 ,  4F100BA04 ,  4F100BA05 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10B ,  4F100CA23B ,  4F100DE04H ,  4F100EG001 ,  4F100EH461 ,  4F100EH462 ,  4F100EJ541 ,  4F100EJ543 ,  4F100EJ861 ,  4F100EJ863 ,  4F100GB41 ,  4F100JA06B ,  4F100JA13B ,  4F100JB13B ,  4F100JB14B ,  4F100JL09 ,  4F100JN01A ,  4F100JN06 ,  4F100JN18B ,  4F100JN18C ,  4F100JN18D ,  4F100JN18H ,  4F100YY00B ,  4F100YY00C ,  4F100YY00D
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (8件)
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