特許

J-GLOBAL ID：200903031935975466

超純水製造装置

発明者： 知野 秀一 ,  中村 穰 ,  阿部 嗣 ,  木暮 雅彦
出願人/特許権者： 野村マイクロ・サイエンス株式会社
代理人 (1件)： 須山 佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-020039
公開番号（公開出願番号）：特開平9-206740
出願日： 1996年02月06日
公開日（公表日）： 1997年08月12日
要約：

【要約】【課題】超純水中のTOC濃度および溶存酸素濃度の増加と二次系システムを構成する機器の劣化とをほぼ防止する超純水製造装置を提供すること。【解決手段】一次純水から超純水を製造する超純水製造装置において、180〜190nmの波長を有する紫外線を発生する紫外線照射装置と、アニオン交換樹脂を充填した単床式イオン交換装置と、膜脱気装置と、混床式イオン交換装置とを流路に沿って配置したことを特徴とする超純水製造装置および一次純水から超純水を製造する超純水製造装置において、180〜190nmの波長を有する紫外線を発生する紫外線照射装置と、アニオン交換樹脂を充填した単床式イオン交換装置と、不活性ガス添加型真空脱気装置と、混床式イオン交換装置とを流路に沿って配置したことを特徴とする超純水製造装置による。

請求項（抜粋）：

一次純水から超純水を製造する超純水製造装置において、180〜190nmの波長を有する紫外線を発生する紫外線照射装置と、アニオン交換樹脂を充填した単床式イオン交換装置と、膜脱気装置と、混床式イオン交換装置とを流路に沿って配置したことを特徴とする超純水製造装置。

IPC (8件)：

C02F 1/32 ,  B01D 19/00 ,  B01D 19/00 101 ,  B01J 47/02 ,  B01J 47/04 ,  C02F 1/20 ,  C02F 1/42 ,  C02F 1/44

FI (8件)：

C02F 1/32 ,  B01D 19/00 H ,  B01D 19/00 101 ,  B01J 47/02 C ,  B01J 47/04 B ,  C02F 1/20 A ,  C02F 1/42 A ,  C02F 1/44 J