特許

J-GLOBAL ID：200903031949253420

高分子超微粒子吸着構造体及びその製造方法

発明者： 明石 満 ,  芹澤 武 ,  谷口 孝太
出願人/特許権者： 明石 満 ,  ユニケミカル株式会社
代理人 (1件)： 高石 橘馬
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-165293
公開番号（公開出願番号）：特開平10-337794
出願日： 1997年06月06日
公開日（公表日）： 1998年12月22日
要約：

【要約】【課題】 帯電防止性、低摩擦性、耐摩耗性等の表面特性に優れているとともに表面積が大きい高分子超微粒子吸着構造体、及びその製造方法を提供する。【解決手段】 本発明の高分子超微粒子吸着構造体は、基板表面に形成された荷電性高分子薄膜上にマクロモノマー法により合成された荷電性高分子超微粒子を吸着させることにより得られる。高分子超微粒子は表面に荷電性のグラフト鎖を有し、平均粒径は10nm〜5μm である。高分子薄膜は、カチオン性の電荷を有する水溶性高分子と、アニオン性の電荷を有する水溶性高分子とが少なくとも一層ずつ交互に積層してなるのが好ましい。

請求項（抜粋）：

基板表面に形成された荷電性高分子薄膜上に、マクロモノマー法により合成された荷電性高分子超微粒子が吸着していることを特徴とする高分子超微粒子吸着構造体。

IPC (5件)：

B32B 5/16 ,  B32B 27/06 ,  C08F 2/06 ,  C08J 7/04 ,  C08F 8/00

FI (5件)：

B32B 5/16 ,  B32B 27/06 ,  C08F 2/06 ,  C08J 7/04 B ,  C08F 8/00