特許
J-GLOBAL ID:200903031953729685
排気ガス浄化触媒装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (4件):
小谷 悦司
, 伊藤 孝夫
, 樋口 次郎
, 江川 勝
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-259109
公開番号(公開出願番号):特開2009-082880
出願日: 2007年10月02日
公開日(公表日): 2009年04月23日
要約:
【課題】H2Sの排出量を低減するとともに、高い浄化性能を発揮する排気ガス浄化触媒装置を提供することを目的とする。【解決手段】エンジン1の排気通路2に、排気ガスの流通方向の上流側に配置される上流側触媒3と、排気ガスの流通方向の下流側に配置される下流側触媒4とが設けられる排気ガス浄化触媒装置であって、下流側触媒4が、セリウム(Ce)を含むロジウムドープ型複合酸化物と、Ni成分とを含有し、上流側触媒3が、ロジウムドープ型複合酸化物以外のセリウム(Ce)を含む酸素吸蔵材と、Ni成分とを含有し、上流側触媒3におけるCeO2に対するNiの比率が、15質量%以上20質量%以下であり、下流側触媒4におけるCeO2に対するNiの比率が、10質量%以上60質量%以下であることを特徴とする排気ガス浄化触媒装置を用いる。【選択図】図1
請求項(抜粋):
エンジンの排気通路に、排気ガスの流通方向の上流側に配置される上流側触媒と、排気ガスの流通方向の下流側に配置される下流側触媒とが設けられる排気ガス浄化触媒装置であって、
前記下流側触媒が、セリウム(Ce)を含む酸素吸蔵材の結晶格子点又は格子点間にロジウムが配置されているロジウムドープ型複合酸化物と、少なくともニッケル(Ni)及び酸化ニッケル(NiO)のいずれか一方とを含有し、
前記上流側触媒が、前記ロジウムドープ型複合酸化物以外のセリウム(Ce)を含む酸素吸蔵材と、少なくともニッケル(Ni)及び酸化ニッケル(NiO)のいずれか一方とを含有し、
前記上流側触媒におけるCeO2に対するNiの比率が、15質量%以上20質量%以下であり、前記下流側触媒におけるCeO2に対するNiの比率が、10質量%以上60質量%以下であることを特徴とする排気ガス浄化触媒装置。
IPC (5件):
B01J 23/89
, B01D 53/86
, B01D 53/94
, F01N 3/10
, F01N 3/24
FI (5件):
B01J23/89 A
, B01D53/36 D
, B01D53/36 104A
, F01N3/10 A
, F01N3/24 C
Fターム (74件):
3G091AA02
, 3G091AA17
, 3G091AB01
, 3G091AB03
, 3G091BA11
, 3G091BA14
, 3G091BA15
, 3G091BA19
, 3G091GA06
, 3G091GB01W
, 3G091GB04W
, 3G091GB06W
, 3G091GB07W
, 3G091GB10W
, 3G091GB10X
, 3G091GB17X
, 3G091HA03
, 3G091HA08
, 4D048AA03
, 4D048AA06
, 4D048AA13
, 4D048AA18
, 4D048AB05
, 4D048AB07
, 4D048BA03X
, 4D048BA08X
, 4D048BA18X
, 4D048BA19X
, 4D048BA30X
, 4D048BA31X
, 4D048BA32Y
, 4D048BA33X
, 4D048BA34Y
, 4D048BA38X
, 4D048BA41X
, 4D048BA42X
, 4D048CC32
, 4D048CC36
, 4D048CC46
, 4D048EA04
, 4G169AA03
, 4G169BA01B
, 4G169BB04A
, 4G169BB04B
, 4G169BB06A
, 4G169BB06B
, 4G169BC16B
, 4G169BC32A
, 4G169BC33A
, 4G169BC40B
, 4G169BC42B
, 4G169BC43A
, 4G169BC43B
, 4G169BC44A
, 4G169BC44B
, 4G169BC51A
, 4G169BC51B
, 4G169BC68A
, 4G169BC68B
, 4G169BC69A
, 4G169BC71A
, 4G169BC71B
, 4G169BC72B
, 4G169BC75B
, 4G169CA02
, 4G169CA03
, 4G169CA09
, 4G169CA11
, 4G169DA06
, 4G169EC28
, 4G169EE05
, 4G169EE06
, 4G169EE09
, 4G169FC08
引用特許:
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