特許
J-GLOBAL ID:200903031955520570

パルスレーザビームを用いた、透明な材料の内側に像を形成する方法及び装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大島 陽一 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-124200
公開番号(公開出願番号):特開平7-136782
出願日: 1994年05月13日
公開日(公表日): 1995年05月30日
要約:
【要約】【目的】 パルスレーザビームを用いて、透明な材料の内側に像を形成するための方法及び装置を提供することを目的とする。【構成】 回折が制限されたQスイッチされたレーザを用いて、レーザビームを発生させる過程と、前記レーザビームの鋭い焦点合わせを行い、前記透明な材料の内側に寸法を調節可能な微小破壊を形成する過程と、前記透明な材料の内側の予め設定された点に前記レーザビームを周期的に焦点合わせする過程と、前記透明な材料に前記微小破壊を形成するために十分な前記レーザビームの電力及びパルス幅を選択する過程と、次の微小破壊を形成するために、前記透明な材料と前記レーザビームを前記像が再生される次の点まで相互に変位させる過程とからなる。
請求項(抜粋):
パルスレーザビームを用いた、透明な材料の内側に像を形成する方法であって、回折が制限されたQスイッチレーザを用いて、レーザビームを発生させる過程と、前記レーザビームの鋭い焦点合わせを行い、前記透明な材料の内側に寸法を調節可能な微小破壊を形成する過程と、前記透明な材料の内側の予め設定された点に前記レーザビームを周期的に焦点合わせする過程と、前記透明な材料に前記微小破壊を形成するために十分な前記レーザビームの電力及びパルス幅を選択する過程と、次の微小破壊を形成するために、前記透明な材料と前記レーザビームを前記像が再生される次の点まで相互に変位させる過程とを有することを特徴とする透明な材料の内側に像を形成する方法。
引用特許:
審査官引用 (5件)
  • 特開昭53-058562
  • 特開昭56-169347
  • 特開昭52-121894
全件表示

前のページに戻る