特許

J-GLOBAL ID：200903031966276744

シリカ微粒子と低屈折率膜形成用塗料、及び低屈折率膜とその製造方法、並びに反射防止膜

発明者： 広門 孝雄 ,  木下 暢 ,  柳沢 恒夫
出願人/特許権者： 住友大阪セメント株式会社
代理人 (7件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  渡邊 隆 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  西 和哉 ,  村山 靖彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-243690
公開番号（公開出願番号）：特開2004-083307
出願日： 2002年08月23日
公開日（公表日）： 2004年03月18日
要約：

【課題】機械的強度に優れかつ屈折率の小さいシリカ微粒子、機械的強度、耐擦傷性、透明性に優れた低屈折率膜を形成するための低屈折率膜形成用塗料、このシリカ微粒子を含有することで機械的強度、耐擦傷性、透明性に優れた低屈折率膜とその製造方法、高い透明性、優れた反射防止効果、高い膜強度を有する反射防止膜を提供する。【解決手段】本発明のシリカ微粒子は、細孔を有し、空隙率が30〜90%であり、かつ1次粒子の平均径が5〜100nmであることを特徴とする。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

細孔を有し、空隙率が30〜90%であり、かつ1次粒子の平均径が5〜100nmであることを特徴とするシリカ微粒子。

IPC (3件)：

C01B33/18 ,  C09D7/12 ,  C09D201/00

FI (3件)：

C01B33/18 Z ,  C09D7/12 ,  C09D201/00

Fターム (33件)：

4G072AA25 ,  4G072BB05 ,  4G072BB15 ,  4G072DD06 ,  4G072DD07 ,  4G072FF01 ,  4G072FF06 ,  4G072GG01 ,  4G072GG02 ,  4G072HH21 ,  4G072KK01 ,  4G072RR05 ,  4G072SS04 ,  4G072TT01 ,  4G072TT08 ,  4G072TT30 ,  4G072UU30 ,  4J038CD021 ,  4J038CD091 ,  4J038CE071 ,  4J038CG001 ,  4J038DA041 ,  4J038DA161 ,  4J038DB001 ,  4J038DD001 ,  4J038DG001 ,  4J038DL031 ,  4J038HA446 ,  4J038KA06 ,  4J038KA08 ,  4J038NA09 ,  4J038NA11 ,  4J038NA19

引用特許：

審査官引用 (2件)

• メソポーラス物質
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-369459   出願人：旭化成株式会社
• メソポーラスシリカの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-076705   出願人：旭化成株式会社