特許
J-GLOBAL ID：200903031992757785
イオン源
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
絹谷 信雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-198335
公開番号（公開出願番号）：特開平7-057673
出願日： 1993年08月10日
公開日（公表日）： 1995年03月03日
要約：
【要約】【目的】 基板の発熱が少なく、取扱いが容易なイオン源を提供する。【構成】 プラズマを発生するプラズマ室9を有するイオン源において、プラズマ室9に、アーク放電の陽光柱5を発生させるアークジェット1を接続し、そのアークジェット1に、陽光柱5に直接プラズマ化する粉体を供給する粉体供給口6を設けたことを特徴としている。
請求項（抜粋）：
プラズマを発生するプラズマ室を有するイオン源において、該プラズマ室に、アーク放電の陽光柱を発生させるアークジェットを接続し、そのアークジェットに、前記陽光柱に直接プラズマ化すべく粉体を供給する粉体供給口を設けたことを特徴とするイオン源。
IPC (2件)：
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