特許
J-GLOBAL ID:200903031993837189

基板の温度制御方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 三好 秀和 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-247898
公開番号(公開出願番号):特開平5-090273
出願日: 1991年09月26日
公開日(公表日): 1993年04月09日
要約:
【要約】【目的】 基板温度の制御性を向上することを目的とする。【構成】 加熱源としてのヒーター線3を一体に成形したホットプレート1上に基板Aを載置し、ヒーター線3の印加電圧および電流を調節し、ヒーター線3の電気抵抗値が所望の電気抵抗値になるように制御する。
請求項(抜粋):
基板を載置し、この基板を加熱するホットプレートを備えた半導体製造装置において、前記ホットプレートは、その内部にヒーター配線が埋め込まれた構造を有し、前記ヒーター線への印加電圧および電流を制御することにより、前記ヒーター線の電気抵抗値を所望の値にし、前記基板の温度制御を行うことを特徴とする基板の温度制御方法。
IPC (3件):
H01L 21/324 ,  H01L 21/31 ,  H01L 21/68
引用特許:
審査官引用 (5件)
  • 特開昭63-065631
  • 特開昭63-065631
  • 特開昭58-145084
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