特許
J-GLOBAL ID：200903032002336019
中空構造を有するセラミックス多孔体の低温製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉村 暁秀 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-255280
公開番号（公開出願番号）：特開2001-080976
出願日： 1999年09月09日
公開日（公表日）： 2001年03月27日
要約：
【要約】【課題】 無機骨格からなるナノメートルスケールの細孔構造を有するセラミックス多孔体を低温で製造する方法を提供する。【解決手段】 界面活性剤の分子集合体、界面活性剤分子と所定の有機分子を共存させた集合体及び異種の界面活性剤の分子集合体から選択した集合体を鋳型として用い、該集合体とセラミック材料あるいは該セラミック材料の前駆体とを混合して無機-有機構造を有するセラミックス多孔体の前駆体を形成し、該セラミック多孔体の前駆体中の界面活性剤を光酸化により除去することで、ナノメートルスケールの細孔構造を有するセラミックス多孔体を低温で形成することを特徴とするセラミックス多孔体の製造方法。
請求項（抜粋）：
界面活性剤の分子集合体、界面活性剤分子と所定の有機分子を共存させた集合体及び異種の界面活性剤の分子集合体から選択した集合体を鋳型として用い、該集合体とセラミック材料あるいは該セラミック材料の前駆体とを混合して無機-有機構造を有するセラミックス多孔体の前駆体を形成し、該セラミック多孔体の前駆体中の界面活性剤を光酸化により除去することで、ナノメートルスケールの細孔構造を有するセラミックス多孔体を低温で形成することを特徴とするセラミックス多孔体の製造方法。
FI (2件)：
C04B 38/06 J
, C04B 38/06 G
