特許

J-GLOBAL ID：200903032005471928

脱塩素用薄膜とその製造方法及び塩素系ガスの除去方法

発明者： 長谷川 匡俊 ,  浅野 義彦
出願人/特許権者： 株式会社明電舎
代理人 (1件)： 志賀 富士弥 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-140311
公開番号（公開出願番号）：特開平11-319525
出願日： 1998年05月22日
公開日（公表日）： 1999年11月24日
要約：

【要約】【課題】 プラスチック等を含む廃棄物を熱分解処理した際に発生する塩素系ガスを除去するための脱塩素用薄膜とその製造方法及び塩素系ガスの除去方法を提供することを目的とする。【解決手段】 ガラス板等の被塗着物に塗着したポリアミド酸溶液の溶媒を蒸発させてポリアミド酸薄膜を得て、該ポリアミド酸薄膜の加熱処理によって脱塩素性を有する多孔質の有機機能性薄膜であるポリイミド薄膜を作製した脱塩素用薄膜とその製造方法を提供することが基本手段となっている。また、プラスチック等を含む廃棄物を熱分解処理した際に発生する塩素系ガスを、多孔質の有機機能性薄膜であるポリイミド薄膜に300°C〜400°Cの温度範囲で接触反応させて、塩素性ガスを吸収処理するようにした塩素系ガスの除去方法を提案する。

請求項（抜粋）：

ガラス板等の被塗着物に塗着したポリアミド酸溶液の溶媒を蒸発させてポリアミド酸薄膜を得て、該ポリアミド酸薄膜の加熱処理によって脱塩素性を有する多孔質の有機機能性薄膜であるポリイミド薄膜を作製したことを特徴とする脱塩素用薄膜。

IPC (10件)：

B01D 71/64 ,  B01D 53/22 ,  B01D 53/68 ,  B29C 41/12 ,  C08G 73/10 ,  C08J 9/26 ,  C08J 9/28 CFG ,  C08J 9/28 101 ,  B29K 77:00 ,  B29L 7:00

FI (8件)：

B01D 71/64 ,  B01D 53/22 ,  B29C 41/12 ,  C08G 73/10 ,  C08J 9/26 ,  C08J 9/28 CFG ,  C08J 9/28 101 ,  B01D 53/34 134 A