ガス中に低濃度で含有されるH2Sを、触媒手段によって、蒸気相において、硫黄に直接的に酸化する方法。

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：川口義雄 (外3名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-574018
公開番号（公開出願番号）：特表2002-526359
出願日： 1999年09月21日
公開日（公表日）： 2002年08月20日
要約：

【要約】本発明は、炭化珪素支持体と組み合わされるFe、Cu、Ni、Co、Cr、MoおよびWから選択される金属の少なくとも1種類のオキシ硫化物を含有する酸化触媒に接触させ、処理されるガス中に形成される硫黄の露点より高い温度、特に180°C〜500°Cにおいて操作することによって、処理されるガスを硫黄に酸化する方法に関する。本発明は、様々な発生源に由来するガスに含まれるH2Sを取り除き、このH2Sを実質的に硫黄の形態で回収するために有用である。

請求項（抜粋）：

ガス中に低濃度で含有されるH2Sを触媒手段によって硫黄に直接的に酸化する方法であって;該方法は、0.05〜15のO2/H2Sモル比を与えるような適切な量における該H2S含有ガスおよび遊離酸素含有ガスを、炭化珪素を基剤とする支持体と合わされ、少なくとも1種類の遷移金属の少なくとも1種類の化合物から製造される触媒的に活性な相から成る、H2Sの硫黄への選択的酸化のための触媒と接触させる種類の方法であり;該方法は、H2Sの酸化の間に形成される硫黄の露点より高い温度において行われ、および、該方法は、触媒の活性相が、鉄、銅、ニッケル、コバルト、クロム、モリブデン、およびタングステンから選択される少なくとも1種類の金属の少なくとも1種類のオキシ硫化物から成ることを特徴とする方法。

IPC (7件)：

C01B 17/04 , B01D 53/86 ZAB , B01J 27/224 , B01J 27/30 , B01J 37/14 , B01J 37/20 , B01J 38/16

FI (7件)：

C01B 17/04 M , B01J 27/224 M , B01J 27/30 M , B01J 37/14 , B01J 37/20 , B01J 38/16 , B01D 53/36 ZAB D

Fターム (48件)：

4D048AA03 , 4D048AB01 , 4D048AC06 , 4D048BA06X , 4D048BA25Y , 4D048BA26Y , 4D048BA27Y , 4D048BA35Y , 4D048BA36X , 4D048BA37Y , 4D048BA38Y , 4D048BA45X , 4D048BA46X , 4D048BB01 , 4D048BD04 , 4G069AA03 , 4G069AA08 , 4G069BA06 , 4G069BB15A , 4G069BB15B , 4G069BB20A , 4G069BB20B , 4G069BC31A , 4G069BC58A , 4G069BC59A , 4G069BC60A , 4G069BC66A , 4G069BC66B , 4G069BC67A , 4G069BC68A , 4G069BD05A , 4G069BD05B , 4G069BD08A , 4G069CB81 , 4G069DA05 , 4G069EA02Y , 4G069EC02X , 4G069EC02Y , 4G069EC03X , 4G069EC04X , 4G069FA01 , 4G069FA02 , 4G069FB13 , 4G069FB29 , 4G069FB40 , 4G069FB50 , 4G069FC07 , 4G069FC08

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開昭48-028393
特開昭53-130291
特開昭63-028450

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