特許
J-GLOBAL ID：200903032061491583
基板処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
木戸 一彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-110622
公開番号（公開出願番号）：特開平6-326223
出願日： 1993年05月12日
公開日（公表日）： 1994年11月25日
要約：
【要約】【目的】 複数枚の基板をカセットに収容した状態で扱うとともに、処理後の基板を冷却する必要がある基板処理装置において、その設置面積を小さくできるとともに、装置構成の簡略化や基板搬送時間の短縮も図れる基板処理装置を提供する。【構成】 複数枚の基板Pを収容したカセット16を昇降可能に収納する基板交換室11と、前記カセット16内の基板Pを1枚毎に搬送する基板搬送手段13を有する搬送室14と、前記基板Pに所定の処理を行う反応室12とを備えるとともに、前記基板交換室11のカセット収納位置の上下少なくともいずれか一方に、前記反応室12内での処理後の基板Pを載置して冷却する基板冷却部を設ける。
請求項（抜粋）：
複数枚の基板を収容したカセットを昇降可能に収納する基板交換室と、前記カセット内の基板を1枚毎に搬送する基板搬送手段を有する搬送室と、前記基板に所定の処理を行う反応室とを備えるとともに、前記基板交換室のカセット収納位置の上下少なくともいずれか一方に、前記反応室内での処理後の基板を載置して冷却する基板冷却部を設けたことを特徴とする基板処理装置。
IPC (4件)：
H01L 23/34
, C23C 14/50
, H01L 21/324
, H01L 21/68
