特許
J-GLOBAL ID：200903032063927311
(メタ)アクリル単量体、ビニル単量体、ビニリデン単量体、及びジエン単量体を制御下でラジカル重合又は共重合する方法並びに該方法により得られる(共)重合体
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
平木 祐輔 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-171580
公開番号（公開出願番号）：特開平10-195136
出願日： 1997年06月27日
公開日（公表日）： 1998年07月28日
要約：
【要約】【課題】 ビピリジン又は置換ビピリジンの代替物となりうる他の種々の多座配位子を触媒に使用して、ビピリジン類よりも重合速度を速めることができ、従って生産性を高めることができる開始剤系を提供する。【解決手段】 (1)少なくとも一つのラジカル発生剤化合物と、(2)式MAa(L)n〔式中、M=Cu、Ag、又はAu;A=ハロゲン、擬ハロゲン、又はカルボキシレート基;L=Mの配位子;a=1又は2;n=1、2、又は3〕で表される少なくとも一つの金属錯体触媒との存在下で、0°C程度に低くてもよい温度において、少なくとも一つの単量体をバルク中、溶液中、乳濁液中、又は懸濁液中で重合又は共重合する。
請求項（抜粋）：
(メタ)アクリル単量体及び/又はビニル単量体及び/又はビニリデン単量体及び/又はジエン単量体を制御下でラジカル重合又は共重合する方法であって、(1)少なくとも一つのラジカル発生剤化合物と、(2)以下の式(I):MAa(L)n (I)〔式中、MはCu、Ag、又はAuを表し;Aはハロゲン、擬ハロゲン、又はカルボキシレート基を表し;Lは金属Mの配位子を表すが、以下の式(II):【化1】{式中、YはN又はPを表し;R1、R2、R3、R4、R5、及びR6はそれぞれ独立に水素原子、C1〜C10アルキル基、芳香族基、又はヘテロ芳香族基を表し;Z1、Z2、及びZ3はそれぞれ独立に次式:【化2】【化3】【化4】-NR19R20(式中、R7〜R18はそれぞれ独立に水素原子、C1〜C10アルキル基、芳香族基、又はヘテロ芳香族基を表し;R19及びR20はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、C1〜C10アルキル基、C1〜C10アルコキシ基、又は-(CR21R22)rNR23R24基[式中、R21、R22、R23、及びR24はそれぞれ独立に水素原子、C1〜C10アルキル基、芳香族基、又はヘテロ芳香族基を表し、rは1〜10の整数である]を表す)のうちの一つを表すが、Z1、Z2、及びZ3のうちの二つ以下がそれぞれ水素原子を表してもよく;o、p、及びqはそれぞれ独立に1〜10の整数を表すが、関連するZ1、Z2、又はZ3がそれぞれ-NR19R20を表す場合には0であってもよい}で表される配位子から独立に選ばれ;aは1又は2であり;nは1、2、又は3である〕で表される金属錯体を有する少なくとも一つの触媒と、を含んでなる開始剤系の存在下で、0°C程度に低くてもよい温度において、少なくとも一つの該単量体をバルク中、溶液中、乳濁液中、又は懸濁液中で重合又は共重合することを特徴とする前記方法。
IPC (8件)：
C08F 12/02
, C08F 4/06
, C08F 4/28
, C08F 14/00
, C08F 18/04
, C08F 20/18
, C08F 36/02
, C08F297/00
C08F 12/02
, C08F 4/06
, C08F 4/28
, C08F 14/00
, C08F 18/04
, C08F 20/18
, C08F 36/02
, C08F297/00
