特許
J-GLOBAL ID：200903032072124760
プラズマ密度情報測定方法、および測定に用いられるプロ-ブ、並びにプラズマ密度情報測定装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-058636
公開番号（公開出願番号）：特開2000-100599
出願日： 1999年03月05日
公開日（公表日）： 2000年04月07日
要約：
【要約】【課題】プラズマ密度情報を長期間にわたって簡単に測定する。【解決手段】本発明では、測定プローブ12のガラス製チューブ14の先端が測定対象のプラズマPMに接するように測定プローブ12をセットしておく。同軸ケーブル16を介して送られる高周波パワーをループアンテナ15からチューブ壁を介してプラズマPMへ供給するとともに、高周波パワーの反射パワーをループアンテナ15で受信して高周波パワーの反射率の対周波数変化を求出する。求出した反射率周波数特性で反射率が大きく低下するところはプラズマ密度に起因して高周波パワーの強い吸収が起こるピークである。このプラズマ吸収周波数からプラズマ密度を求めることができる。
請求項（抜粋）：
プラズマに高周波パワー(高周波電力)を供給するとともに、プラズマ負荷による高周波パワーの反射または吸収状況を示すパラメータの量的測定を行い、パラメータの測定結果に基づき、プラズマ密度に起因して高周波パワーの強い吸収が起こる周波数、すなわちプラズマ吸収周波数を求出することを特徴とするプラズマ密度情報測定方法。
IPC (4件)：
H05H 1/46
, H01L 21/3065
, H05H 1/00
, C23C 14/34
H05H 1/46 L
, H05H 1/46 R
, H05H 1/00 A
, C23C 14/34 U
, H01L 21/302 B
