特許
J-GLOBAL ID：200903032107871491
荷電ビーム照射装置と照射方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-220097
公開番号（公開出願番号）：特開平8-083591
出願日： 1994年09月14日
公開日（公表日）： 1996年03月26日
要約：
【要約】【目的】 簡便でしかも現実の建屋・装置の構造に対応して、磁場変動に伴う電子ビームの照射位置変動を補正することができ、露光の高精度化及び装置構成の簡略化をはかり得る電子ビーム露光装置を提供することにある。【構成】 試料109上に電子ビームを照射して所望パターンを露光する電子ビーム露光装置において、外部磁場による磁場変動を1軸で測定する磁場測定プローブ1と、このプローブ1により測定された磁場変動量に対応する補正量を出力する補正回路2と、この補正回路2により出力された補正量に対応して電子ビームを偏向するビーム偏向器3と、試料109上のビーム位置を測定するビーム位置測定機構4と、測定された磁場変動量とビーム位置に基づいて補正回路2による補正量を決定し、該補正回路2に最適な補正量を与える評価回路5とを具備してなることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
試料上に荷電ビームを照射する荷電ビーム照射装置において、外部磁場による磁場変動の大きさと方向を測定する磁場測定手段と、この磁場測定手段により測定された磁場変動量に対応する補正量を出力する補正手段と、この補正手段により出力された補正量に対応して荷電ビームを偏向するビーム偏向手段と、前記試料上のビーム位置を測定するビーム位置測定手段と、前記各測定手段により測定された磁場変動量とビーム位置に基づいて前記補正手段による補正量を決定し、該補正手段に最適な補正量を与える評価手段とを具備してなることを特徴とする荷電ビーム照射装置。
IPC (5件)：
H01J 37/305
, G03F 7/20 504
, H01J 37/04
, H01J 37/147
, H01L 21/027
