選択的レーザー焼結のための焼結粉末、その製造方法、成形体の製造方法および成形体

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：矢野敏雄 , 山崎利臣 , 久野琢也 , アインゼル・フェリックス=ラインハルト , ラインハルト・アインゼル
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-207721
公開番号（公開出願番号）：特開2004-137465
出願日： 2003年08月18日
公開日（公表日）： 2004年05月13日
要約：

【課題】少量の新しい粉末の添加によって又は新しい粉末を添加せずに直接再びレーザ焼結粉末として使用するために適当であり、かつ更に生じる廃棄せねばならない戻り粉末の量を減らすために適当であるレーザ焼結粉末を提供する。【解決手段】調整剤、特に有機カルボン酸をほぼ一定の溶液粘度を有するポリアミド、ポリアミド粉末に添加することによって製造でき、かつ前記の調整されるポリアミドを有するレーザ焼結粉末を新しい粉末の添加なくして、又は僅かにすぎない新しい粉末を添加して複数回、レーザ焼結プロセスにおいて使用できることが見いだされた。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

選択的レーザ焼結のための焼結粉末において、該粉末がカルボキシル末端基過剰を有するポリアミド、いわゆる調整されたポリアミドを有することを特徴とする選択的レーザ焼結のための焼結粉末。

IPC (3件)：

C08L77/00 , B29C67/00 , C08K3/00

FI (3件)：

C08L77/00 , B29C67/00 , C08K3/00

Fターム (19件)：

4F213AA29 , 4F213AC04 , 4F213WA22 , 4F213WA25 , 4F213WB01 , 4F213WL02 , 4F213WL12 , 4F213WL23 , 4F213WL25 , 4F213WL28 , 4J002CL01W , 4J002CL01X , 4J002CL03W , 4J002CL03X , 4J002DA066 , 4J002DL006 , 4J002DM006 , 4J002FA086 , 4J002FD016

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