特許
J-GLOBAL ID：200903032134220427
皮膜形成方法及び皮膜形成金属素材
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉田 研二 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-168011
公開番号（公開出願番号）：特開平10-018093
出願日： 1996年06月27日
公開日（公表日）： 1998年01月20日
要約：
【要約】【課題】 リンやクロム化合物を使用せず、スラッジを発生させない耐食性に優れた金属表面の皮膜形成方法を提供する。【解決手段】 金属素材に対して、(a)脱脂処理工程、(b)アミノ系カップリング剤及び/又はメルカプト系カップリング剤による前処理工程、(c)下記(c-1)の皮膜形成工程、を順次経て、(c-1)の皮膜形成工程は、(A),(B)又は(C)の少なくとも1種の組成を含む水溶液に浸漬することにより皮膜を形成する工程であり、(A)活性エステル基及びスルホニウム基を同一分子内に含有するモノマー、(B)上記(A)のモノマーとラジカル重合性不飽和モノマーとの共重合により得られる活性エステル基を有するエマルション、(C)無機粒子を核として、上記(A)のモノマーとラジカル重合性不飽和モノマーとの共重合してなる被覆層で上記無機粒子が被覆された活性エステル基を有する複合エマルションである。
請求項（抜粋）：
金属素材に対して、下記(a)〜(c)の工程を順次経る皮膜形成方法であって、(a)脱脂処理工程、(b)アミノ系カップリング剤及び/又はメルカプト系カップリング剤による前処理工程、(c)下記(c-1)又は(c-2)の皮膜形成工程、前記(c-1)の皮膜形成工程は、下記(A),(B)又は(C)の少なくとも1種の組成を含む水溶液に浸漬することにより皮膜を形成する工程、(A)活性エステル基及びスルホニウム基を同一分子内に含有するモノマー、(B)上記(A)のモノマーとラジカル重合性不飽和モノマーとの共重合により得られる活性エステル基を有するエマルション、(C)無機粒子を核として、上記(A)のモノマーとラジカル重合性不飽和モノマーとの共重合してなる被覆層で上記無機粒子が被覆された活性エステル基を有する複合エマルション、前記(c-2)の皮膜形成工程は、上記(A),(B)又は(C)の少なくとも1種の組成を含む水溶液に前記金属素材を浸漬し、この金属素材を陰極として、前記陰極と陽極との間に通電し、前記組成を電解重合させることにより皮膜を形成する工程、であることを特徴とする皮膜形成方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C25D 13/08
, C25D 13/20 C
