特許

J-GLOBAL ID：200903032135852249

液浸透式印の製造方法及びこの方法に用いる原印部材

発明者： 谷川 正夫
出願人/特許権者： 谷川商事株式会社 ,  ヤマハチケミカル株式会社
代理人 (1件)： 菊池 武胤
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-307037
公開番号（公開出願番号）：特開平7-137410
出願日： 1993年11月15日
公開日（公表日）： 1995年05月30日
要約：

【要約】 (修正有)〔目的〕 顧客から注文を受けたら、その注文を受けた液浸透式印だけの製造を可能とする新規な液浸透式印の製造方法を提供すると共にこの方法に用いる新規な液浸透式印用原印部材を提供する。〔構成〕 凹型印面を彫刻もしくは蝕刻して形成した原版を作成し、その凹型印面の周りに原印部材のスカート状保護ケースの下縁と合致する位置合わせ凹溝を形成する一方、印面ホルダーに液タンク部材と未加工印面板とを、該未加工印面板の表面が印面ホルダーの下縁より僅かに突出する位置に固着して設けると共に、スカート状の保護ケースを印面ホルダーの外周に上下動可能に設け、外ケースを備えた原印部材を設け、この原印部材の保護ケースの下縁を上記原版の位置合わせ凹溝に合致させて原印部材を上記原版に圧着加熱して印面加工を行うことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

凹型印面を彫刻もしくは蝕刻して形成した原版を作成し、その凹型印面の周りに原印部材のスカート状保護ケースの下縁と合致する位置合わせ凹溝を形成する一方、印面ホルダーに液タンク部材と未加工印面板とを、該未加工印面板の表面が印面ホルダーの下縁より僅かに突出する位置に固着して設けると共に、スカート状の保護ケースを印面ホルダーの外周に上下動可能に設け、外ケースを備えた原印部材を設け、この原印部材の保護ケースの下縁を上記原版の位置合わせ凹溝に合致させて原印部材を上記原版に圧着加熱して印面加工を行うことを特徴とする液浸透式印の製造方法。