特許

J-GLOBAL ID：200903032154589230

溶媒の精製法

発明者： 佐藤 勇夫
出願人/特許権者： 住友化学工業株式会社
代理人 (1件)： 久保山 隆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-375613
公開番号（公開出願番号）：特開2002-181800
出願日： 2000年12月11日
公開日（公表日）： 2002年06月26日
要約：

【要約】【課題】 光散乱検出器を用いる分析において、ベースラインが安定し、スパイクノイズがない光散乱クロマトグラムを得ることができる光散乱検出器用溶媒の精製法を提供する。【解決手段】 孔径が0.01μm以上0.1μm未満であるフィルターとイオン交換樹脂を用いる光散乱検出器用溶媒の精製法。

請求項（抜粋）：

孔径が0.01μm以上0.1μm未満であるフィルターとイオン交換樹脂を用いて、光散乱検出器用溶媒を精製することを特徴とする溶媒精製法。

IPC (6件)：

G01N 30/96 ,  B01D 15/00 ,  B01D 15/04 ,  B01D 61/00 ,  B01J 39/04 ,  G01N 30/06

FI (6件)：

G01N 30/96 A ,  B01D 15/00 K ,  B01D 15/04 ,  B01D 61/00 ,  B01J 39/04 H ,  G01N 30/06 Z

Fターム (15件)：

4D006GA02 ,  4D006HA41 ,  4D006KA02 ,  4D006KA72 ,  4D006KB11 ,  4D006MA03 ,  4D006MA22 ,  4D006PA01 ,  4D006PB20 ,  4D006PC80 ,  4D017AA03 ,  4D017BA03 ,  4D017BA11 ,  4D017CA17 ,  4D017DA03