特許
J-GLOBAL ID：200903032158745687
パターン欠陥検査装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
田澤 博昭 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-180470
公開番号（公開出願番号）：特開平5-113407
出願日： 1991年06月26日
公開日（公表日）： 1993年05月07日
要約：
【要約】【目的】 複雑なパターンを有する被検物の正常パターンからの回折光を効率的に遮断することで、より微弱な欠陥信号の検出を可能とするとともに、アオリ角の補正を不要とすることで、検査時間を短縮して高速検査ができるパターン欠陥検査装置を得ることを目的とする。【構成】 被検パターンの欠陥に係る検査信号のみ透過させる空間周波数フィルタ8に反射角の異なる検査信号を照射すべく、被検物4を載置してその被検物4の傾斜を変化させる載置台23を設けたものである。
請求項（抜粋）：
被検パターンが施された被検査面に光源より可干渉光を照射され、その可干渉光を検査信号として回折する被検物と、上記被検物に回折された検査信号として結像するレンズと、上記レンズの後焦点位置に配置され、該被検パターンの欠陥に係る検査信号のみ透過させる空間周波数フィルタと、上記レンズの結像位置に配置され、上記空間周波数フィルタを透過する検査信号を検出する欠陥検出部と、上記被検物が載置され、上記空間周波数フィルタに反射角の異なる検査信号を照射すべく、その被検物の傾斜を変化させる載置台とを備えたパターン欠陥検査装置。
IPC (3件)：
G01N 21/88
, G01B 11/24
, H01L 21/66
